据日经BP社报道，美国IEEE标准协会（IEEE Standards Association，IEEE-SA）宣布，美国明导国际(Mentor Graphics)获得了IEEE-SA颁发的“2008 Corporate Award”。此举是为了表彰该公司在设计自动化标准委员会 (Design Automation Standard Committee）中所作出的贡献…

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由Mentor Graphics举办的EDA Tech Forum 2008上海站日前成功举行，会上Mentor Graphics介绍了电子系统设计领域最先进的信息、公司完整的解决方案，工程师们与电子设计业界专家面对面互动交流，并通过现场实机展示，亲自体验了Mentor Graphics的最新产品。…

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IBM近日表示，它将和其合作伙伴共同开发一套基于计算等比缩小技术（CS），包括在灰度像素级别对光刻光源的程序编制。在光源-掩膜版优化（SMO）的努力成果旨在应用于22纳米技术节点。Toppan和另一家未宣布的光刻设备制造商也参与其中。IBM方…

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IBM近日表示，它将和其合作伙伴共同开发一套基于计算等比缩小技术（CS），包括在灰度像素级别对光刻光源的程序编制。在光源-掩膜版优化（SMO）的努力成果旨在应用于22纳米技术节点。Toppan和另一家未宣布的光刻设备制造商也参与其中。IBM方…

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越来越多的航空和军事应用需要通过DO-254认证的组件，对此，Altera公司和Mentor Graphics公司昨天宣布，双方展开合作，为开发DO-254认证知识产权(IP)提供工具和方法，这些知识产权面向Altera的现场可编程门阵列(FPGA)和HardCopy®专用集成电路(ASI…

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在多次提议收购遭拒绝之后，Cadence最终放弃以16亿美元现金收购Mentor的计划。 据Cadence称，因Mentor拒绝与Cadence就购买问题展开对话和合作而迫使Cadence放弃这项并购计划。而Mentor则称，这一举措与Cadence近期的公开声明和双方近期的沟通情况…

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　　美国明导国际（Mentor Graphics）日前表示，收到来自Cadence Design Systems的主动收购提议，提议拟以每股 $16.00美元的价格收购明导国际公司。明导国际证实，以前曾拒绝过该项提议。 　　明导国际公司董事会主席兼CEO Walden C. Rhines说，“我们重新考…

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In order to help reduce the impact of process variability during semiconductor design and manufacturing, Mentor Graphics Corp announced today that it has acquired the assets of Mountain View, Calif.-based Ponte Solutions Inc, a developer of model-based design for manufacturing (DFM) software tools.“DFM issues continue to …

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Mentor DF3 是一个全自动的质量计量工具，旨在在大容量的 300 mm 制造环境下实现原子层计量精度。DF3 监测产品晶圆上的制程绩效变化，从而快速确定设备制造商的制程步骤是否正确。能够可靠准确地发现沉积、湿蚀、干蚀或是 CMP 制程之后的制程变化。…

http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-03/2008317063849.htm -- 2008-3-17 0:00:00

　　内嵌的Mentor SF3 是一种单一负载端口 300 mm 的质量计量工具，该工具可监测任何一个流程步骤之后发生的所有产品晶圆的质量变化，从而快速确定该设备制造的制程是否如预期般顺畅进行。该工具使流程变化在沉积、湿蚀、干蚀或是化学机械研磨(CMP)…

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Cadence设计系统公司 (NASDAQ: CDNS) 与Mentor Graphics公司(NASDAQ: MENT) 日前宣布“开放式验证方法学（Open Verification Methodology ,OVM）即日上市，该技术最近刚刚被《电子设计》杂志评为2007年最佳EDA技术大奖。 该OVM基于 IEEE Std. 1800™-20…

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两家领先的EDA公司Cadence Design Systems Inc.和Mentor Graphics Corp.近日发布用于芯片验证的OVM（Open Verification Methodology）软件。 双方表示，OVM的源代码、文件和用户示例将通过一个标准的开放源许可进行发布。 双方在一份声明中表示，OVM包括基…

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美国Silicon Integration Initiative(Si2)宣布，有5家公司作为新成员参加了该机构推进的DFM标准化项目DFMC（Design-For-Manufacturability Coalition）。DFMC的目的是为DFM术语、EDA工具等使用的参数，以及EDA工具与设备间的接口制定标准。 　　此次新增的成…

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Austin, Texas-based industry organization Silicon Integration Initiative (Si2) has announced that Infineon, Intel, Mentor Graphics, STARC, and UMC have joined the Design-for-Manufacturability Coalition (DFMC), which builds on previous efforts to ensure that ICs can be manufactured in accordance with the original design inte…

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Mentor Graphics公司和台积电共同发布了65纳米射频制程设计工具。这套工具允许台积电的65纳米混合信号和RF制程技术用于Mentor Graphics公司的IC设计软件——ICStudio。 台积电65纳米混合信号和RF制程技术在金属9层上使用铜线互联和低K值电介质，核心…

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