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11月21日，国内第一台具有自主知识产权的光掩模清洗设备在常州国家高新区——常州瑞择微电子科技有限公司诞生，打破了欧美长期在光掩模设备的垄断地位。据悉，在极大规模集成电路生产制作流程中，最前沿、最关键部分是光掩模。光掩模是集成电路…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-11/20081124050512.htm -- 2008-11-24 0:00:00
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在90nm Nextreme ASIC产品快速成功的基础上，eASIC公司今天发布了其新一代Nextreme-2系列产品，这是业界第一个45nm无掩模费用 ASIC产品。Nextreme-2系列产品秉承eASIC 做得起定做芯片的原则，只要花费6周时间，就能够得到采用最新的 45nm技术设计定…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-08/200885025119.htm -- 2008-8-5 0:00:00
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高分辨率独立光掩模相位测试系统Phame能够对193纳米的光掩模进行测试。这套系统用于测量和分析高端相移掩膜版的实际相移表现。它使用户能够直接测试那些被曝光在硅片上的器件所对应掩膜版的图形表现。系统可以获得诸如3-D掩膜版效应、衍射…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-01/2008130114706.htm -- 2008-2-1 0:00:00
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日本堀场制作所开发出了光掩膜（Reticle/Mask）及的异物检查装置“PR-PD2HR”，该产品的信噪比（S/N）提高到以往机型的5倍，从而提高了异物的检查能力。可在进行了图案加工后的光掩模上，检测到直径0.35μm的异物。此外，以前机型无法检查位于表模…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-11/20071127115138.htm -- 2007-11-27 0:00:00
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堀场制作所开发出了刻度板（Reticule）/掩模的异物检查装置“PR-PD2HR”，该产品的信噪比（S/N比）提高到以往机型的5倍，从而提高了异物的检查能力。可在进行了图形加工后的刻度板/掩模上，检测到直径0.35μm的异物。此外，以前机型无法检查位于固定…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-11/20071126095441.htm -- 2007-11-26 0:00:00
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Micronic Laser Systems AB近日宣布推出针对显示器应用领域的两台光掩模描绘仪Prexision-8和Prexision-10。Prexision-10应用于下一代LCD，即第十代LCD面板的大尺寸光掩模生产，可有效地降低60寸以上的显示产品和电视的生产成本。Prexision-8则着重于第八代高…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-10/20071030120659.htm -- 2007-10-30 0:00:00
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Novellus Systems Inc.（诺发系统）日前在其等离子增强化学气相淀积（Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition, PECVD）平台上推出了可灰化硬掩膜（AHM）工艺技术。 Novellus称，AHM是专为先进的193nm光刻工艺中高深宽比刻蚀而设计的，它应用在Vector Expr…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-06/2007628102123.htm -- 2007-6-28 0:00:00
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日本凸版印刷公司和IBM将扩大双方在有关半导体制造用光掩膜的合作开发业务。凸版印刷是全球第一大光掩膜厂商，其市场份额维持在25%左右。双方早在2005年就开始了推进45nm产品的开发工作，今后将把合作开发范围扩大到32nm产品领域。 作为开发…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-03/200739124324.htm -- 2007-3-9 0:00:00
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Cadence设计系统公司近日宣布，该公司已开创出具有平版印刷意识的设计流程，并定义了一个把分辨率增强技术(RET)和物理设计与验证相联系的界面。Cadence Brion Technologies和Clear Shape Technologies合作开发了该流程，用以解决日益严峻的由光刻引发的良…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2006-11/20061115092249.htm -- 2006-11-15 0:00:00
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5700-CDRT 作为下一代光学掩模系统同时具有CD-SEM功能、DUV双束激光干涉器和俄歇光谱仪，可以同步进行极化光反射和在DUV-vis-NIR波长范围内完成传输光谱。在193和248nm时，无论测量掩模版的空白区域还是已经图形化的区域，该设备显示出…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2006-04/2006419122140.htm -- 2006-4-21 0:00:00
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Photronics日前宣布了将在韩国建设世界一流的光掩模生产线的计划，旨在支持制造65nm、45nm及以下生产工艺的半导体器件所需的先进光掩模技术的开发和量产。目前，该公司处于寻找合适生产线场地的最后阶段。生产厂房预计在2006年下半年末举行奠基…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2006-03/200637044627.htm -- 2006-3-7 0:00:00
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Brooks Automation公司的Guardian裸掩模版储存柜提供了一套性价比优异的方法来管理越来越多的掩模版存货。储存裸掩模版可以大大降低购买搬运和跟踪设备的费用，因而减少了资金投入，同时还可以真正地节约光刻区的占地面积。 掩模储存柜可以…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2005-1/2006112143051dc126.htm -- 2005-1-26 0:00:00
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IBM Corp. and Toppan Printing Co. Ltd. today announced an agreement to jointly develop photomasks for 45-nanometer semiconductor manufacturing processes. With a $200 million investment expected from the duo, IBM and Toppan plan to develop a photomask process to allow early production of 45nm devices, …
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2005-5/20061121430496e3ce.htm -- 2005-5-25 0:00:00
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在2003年的光掩模版技术会议上，与会者详细讨论完先进掩模版制作有关提高分辨率、清洗、缺陷和数据准备等细节后，又提出了一个新的议题：没有掩模版的世界将会是怎样的？事实上，在会议的最后一个议程“无掩模版光刻”上，讨论的场面看起来有…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2004-3/20061121430462fcec.htm -- 2004-1-2 0:00:00
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