Cadence新推出客制化显影光源最佳化的软件，这是Cadence 22纳米以下整合式显影光源最佳化(Source Mask Optimization，SMO)技术系列中的全新功能。最佳化客制化显影光源技术强化了制程容许度(Process Window)，并提供22纳米半导体制造更佳的二维影像。 Ca…

http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-10/20081020104305.htm -- 2008-10-20 0:00:00

IBM近日表示，它将和其合作伙伴共同开发一套基于计算等比缩小技术（CS），包括在灰度像素级别对光刻光源的程序编制。在光源-掩膜版优化（SMO）的努力成果旨在应用于22纳米技术节点。Toppan和另一家未宣布的光刻设备制造商也参与其中。IBM方…

http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-09/2008929084037.htm -- 2008-10-1 0:00:00

IBM近日表示，它将和其合作伙伴共同开发一套基于计算等比缩小技术（CS），包括在灰度像素级别对光刻光源的程序编制。在光源-掩膜版优化（SMO）的努力成果旨在应用于22纳米技术节点。Toppan和另一家未宣布的光刻设备制造商也参与其中。IBM方…

http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-09/2008926111849.htm -- 2008-9-26 0:00:00

At SEMICON West 2008, Cymer, Inc., the market’s leading developer of light sources used to create advanced semiconductor chips, announces its second-generation Gas Lifetime eXtension (GLX2™) control system for the XLA and XLR series light sources. GLX2 further extends the maximum time between light sourc…

http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-07/2008716114632.htm -- 2008-7-16 0:00:00

Cymer, Inc. (Nasdaq: CYMI)/ Cymer Japan, Ltd.** , the world's leading supplier of light sources used in semiconductor lithography, announced today it has reached a significant multi-unit agreement with Toshiba. Under the agreement, Toshiba will include Cymer's krypton fluoride (KrF) and argon fluoride (ArF) light sources in Tos…

http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-07/200879110035.htm -- 2008-7-9 0:00:00

日前一个关于极紫外（EUV）光刻光源开发的新联盟在日本启动，这是继EUV曝光技术开发完成后，日本极紫外光刻系统开发协会( Extreme Ultraviolet Lithography System Development Association，EUVA，日本川崎)的又一动作，该项目是在2008年3月达成决议的。5月…

http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-05/2008523052756.htm -- 2008-5-23 0:00:00

http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-05/200852064615.htm -- 2008-5-5 0:00:00

　　随着半导体设计规则的紧缩，在65nm及更高节点，浸没式光刻和EUV被认为是获得更小节距的可选择方案，出于技术极限和成本的考量，在实现量产上光刻技术面临极大挑战，其中之一来自于光刻光源。Cymer作为光源领域的领先供应商，目前提供DUV…

http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-05/200852064615.htm -- 2008-5-4 0:00:00

http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-04/200844024016.htm -- 2008-4-23 0:00:00

　　在32nm技术节点以下时，尽管极紫外（EUV）光刻技术已被视为主流的光刻生产技术解决方案，但是如何研发一套可靠、高性能EUV光源系统仍然是摆在业界面前的一道难题。此文将着重介绍了基于触发模式、输出功率达到100W的光源系统。 　　32nm…

http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-04/200844024016.htm -- 2008-4-7 0:00:00

Prior to SPIE Advanced Lithography 2008, Cymer, Inc. (Nasdaq:CYMI), the world's leading supplier of light sources used in semiconductor lithography, announced today the shipment of its 100th XLA 6kHz laser − the industry’s first production-worthy light source for 45nm immersion lithography − to a high-volu…

http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-02/2008228105953.htm -- 2008-2-28 0:00:00

首尔半导体日前宣布成功将全球首项交流电半导体照明光—“Acriche”的光源效率提升至80流明/瓦特。首尔半导体在短时间内取得重大的进展，成功将“Acriche”的光源效率改良及提升至更佳水平。“Acriche”是无需镇流器便可以直接应用于110伏特及220伏特交流…

http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-02/2008219025352.htm -- 2008-2-19 0:00:00

　　伴随着大量的新闻发布，Cymer公司在SEMICON West 2007期间宣布其在极紫外线（EUV）光刻光源上的成功。光刻设备供应商 ASML已经选择Cymer公司的极紫外线光源用于量产设备，并签署了一份长达多年的多项目协议，计划在2008年底首次供货。 　…

http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-12/20071216121945.htm -- 2007-12-18 0:00:00

日本Ushio Inc.日前称其签署了一份意向书，计划和Koninklijke Philips Electronics NV和Jenoptik Laser Optik Systeme GmbH合作开发用于光刻设备的远紫外线（EUV）光源。Ushio表示，此次合作的目标是加速EUV光刻技术的发展并实现后ArF激光（post-ArF laser）沉浸技术…

http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-11/2007117050141.htm -- 2007-11-7 0:00:00

日本牛尾电机、荷兰皇家飞利浦电子及德国Jenoptik L.O.S. GmbH （Jenoptik Laser, Optik, Systeme GmbH）三家公司于10月30日在札幌举办的“2007 International EUVL Symposium”上宣布，将就共同开发新一代EUV（极端远紫外，extreme ultraviolet）曝光所需的光源进行业务…

http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-11/2007112021017.htm -- 2007-11-2 0:00:00