IBM近日表示，它将和其合作伙伴共同开发一套基于计算等比缩小技术（CS），包括在灰度像素级别对光刻光源的程序编制。在光源-掩膜版优化（SMO）的努力成果旨在应用于22纳米技术节点。Toppan和另一家未宣布的光刻设备制造商也参与其中。IBM方…

http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-09/2008929084037.htm -- 2008-10-1 0:00:00

IBM近日表示，它将和其合作伙伴共同开发一套基于计算等比缩小技术（CS），包括在灰度像素级别对光刻光源的程序编制。在光源-掩膜版优化（SMO）的努力成果旨在应用于22纳米技术节点。Toppan和另一家未宣布的光刻设备制造商也参与其中。IBM方…

http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-09/2008926111849.htm -- 2008-9-26 0:00:00

　　IBM与日本凸版印刷（Toppan Printing）日前宣布达成新的光掩膜合作开发协议，并纳入22nm光掩膜工艺计划。 　　合作协议包括了32nm光掩膜工艺开发的最后阶段和所有的22nm光掩膜工艺开发阶段，这项工作于今年6月启动，并在IBM位于美国佛蒙特州Es…

http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-07/200874101704.htm -- 2008-7-4 0:00:00

建立在之前45nm、32nm成功合作的基础上，并旨在推动先进的光掩膜技术以满足下一代芯片制造工艺需求，IBM与日本凸版印刷（Toppan Printing）日前宣布达成新的光掩膜合作开发协议，并纳入22nm光掩膜工艺计划。合作协议包括了32nm光掩膜工艺开发的最…

http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-06/2008625051648.htm -- 2008-6-25 0:00:00

为了缩短光刻掩膜版循环周期，控制成本，日本掩膜版制造商凸版印刷（Toppan Printing）表示，作为业界第一个开发32nm光掩膜制造工艺的制造商，他们于6月开始量产32nm掩膜版，性能已通过了领先向32nm工艺转移的数码相机、移动电话和其他器件的芯片…

http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-06/2008620050938.htm -- 2008-6-20 0:00:00

为了缩短光刻掩膜版循环周期，控制成本，日本掩膜版制造商凸版印刷（Toppan Printing）表示，作为业界第一个开发32nm光掩膜制造工艺的制造商，他们于6月开始量产32nm掩膜版，性能已通过了领先向32nm工艺转移的数码相机、移动电话和其他器件的芯片…

http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-06/2008620050109.htm -- 2008-6-20 0:00:00

为了缩短光刻掩膜版循环周期，控制成本，日本掩膜版制造商凸版印刷（Toppan Printing）表示，作为业界第一个开发32nm光掩膜制造工艺的制造商，他们于6月开始量产32nm掩膜版，性能已通过了领先向32nm工艺转移的数码相机、移动电话和其他器件的芯片…

http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-06/2008620034027.htm -- 2008-6-20 0:00:00

2008年3月18日－Toppan Photomasks股份有限公司今天宣布，它荣获晶圆制造商华润上华科技有限公司（CSMC）颁发的2007年度“十大最佳供应商奖”，这是领先的中国模拟芯片代工厂商第一次授予光掩模制造商这个最高嘉奖。 这项大奖充分肯定Toppan对华润…

http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-03/2008327080056.htm -- 2008-3-19 0:00:00

3月18日,Toppan Photomasks公司在SEMICON China 2008上宣布，荣获晶圆制造商华润上华科技有限公司颁发的2007年度“十大最佳供应商奖”。Toppan Photomasks 表示，这是领先的中国模拟芯片代工厂商第一次授予光掩膜制造商这个最高嘉奖。 据上海凸版光掩膜…

http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-03/2008319023150.htm -- 2008-3-19 0:00:00

Toppan Photomasks与CEA-Leti公司日前宣布，双方将共同开发两次图形曝光（double patterning）技术应用到193nm沉浸式光刻工艺中。 Toppan Photomasks执行副总裁兼首席技术长官Franklin Kalk表示，两次图形曝光技术面临着诸如CD尺寸、定位控制以及掩模制造等…

http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-09/2007920105209.htm -- 2007-9-20 0:00:00

Toppan Photomasks公司日前宣布，收到晶圆代工厂商X-FAB Silicon Foundries公司授予的2006年“年度最佳供应商”荣誉。X-FAB Silicon Foundries公司是专攻模拟/混合信号芯片的晶圆代工厂商。 Toppan Photomasks总裁兼CEO Dave Murray表示，Toppan是唯一一家收到X-F…

http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-07/200776112931.htm -- 2007-7-6 0:00:00

Toppan Photomasks, Inc. announced today that it has received the "Supplier of the Year" Award for 2006 from X-FAB Silicon Foundries, a leading global foundry group for analog/mixed-signal semiconductors. The award, which is given to only one of X-FAB's global suppliers each year, recognizes the outstanding supplier who has …

http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-07/200774060718.htm -- 2007-7-4 0:00:00

光掩膜检测技术的全球领先厂商 KLA-Tencor , Inc. (NASDAQ:KLAC) 今日(4 月16 日)宣布：经过成功的 beta 测试之后，Toppan Photomasks, Inc. 已在其最先进的45 纳米光掩膜生产线中安装上线。 TerascanHR 系统于 2007 年 3 月推出，是业界首款生产级 45 纳米光掩膜检测系…

http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-04/2007416115132.htm -- 2007-4-16 0:00:00

　　1996年就在上海设立光掩模制造厂的Toppan光掩模公司（以前的杜邦光掩模公司）认为，中国厂商很少有自己的photomask shop，即便是中芯国际，在定单过剩时还是需要外援的帮助，而fabless公司和design house的崛起，不仅对photomask市场的成长具有巨…

http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2006-05/2006511113907.htm -- 2006-5-12 0:00:00

Toppan Photomasks Inc. said that it has fabricated extreme-ultraviolet (EUV) masks at its facility in Dresden, Germany for use in ASML's first EUV alpha tool.The masks supplied by Toppan will be used to set up and perform the first lithography on the EUV alpha tool, a 0.25 numerical aperture, full-field scanner built by Dutch lithograp…

http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2005-12/200611214305012127.htm -- 2005-12-7 0:00:00