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英特尔已经制定出淘汰其上一代处理器的时间表，这些旧处理器主要是采用65纳米制程的如 Merom核心等产品。按照英特尔发给其客户的“产品更新通知”，英特尔表示将在2009年的7月停止双核台式电脑芯片的出货，另外将在2009年的1月26日起停止单核心的 …
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-02/200821041618.htm -- 2008-2-1 0:00:00
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业内人士分析，45纳米虽然有较好的低功耗优点，但成本效能比明显不如65纳米，明年后对晶圆代工厂的营收才会有显著贡献。 台积电去年第四季开始提供客户45纳米量产服务，IBM及特许等Common Platform联盟今年第二季可开始提供45纳米投片，联电预估…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-01/2008114022158.htm -- 2008-1-14 0:00:00
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在对手超微(AMD)合并ATI，落实平台化品牌策略，并加速制程及微架构转换，加上NVIDIA凭借过人绘图技术固守城池下，三方制衡令英特尔(Intel)无法重演昔日获利高点，不过在祭出杀价策略后，英特尔声势、获利已逐步回温，近日更调升财测，先前北京春…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-09/2007914010114.htm -- 2007-9-14 0:00:00
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台湾地区晶圆代工厂商联电日前公布，第二季度销售额为251.0亿台币(约合7.64亿美元)，比第一季度增长9%，但比去年同期减少2.5%。第二季度净利润为49.1亿台币，比第一季度大增236.6%，但比去年同期下降18.9%。 第二季度8英寸等价晶圆出货量为80.4万…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-08/200786101236.htm -- 2007-8-6 0:00:00
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德州仪器(TI)宣布将把高介电系数(high-k)材料整合到TI先进的45奈米芯片晶体管制程。随着晶体管体积不断缩小，半导体组件的漏电问题日益严重，业界多年来一直研究如何利用高介电系数材料解决这个难题。相较于目前使用广泛的二氧化硅(SiO2)闸极介电材…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-06/2007626051217.htm -- 2007-6-26 0:00:00
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为了迎头赶上英特尔(Intel)公司，美商超微(AMD)首次揭露了其45纳米制程技术细节。这项具有10层金属层的制程将采用铜互连、渗透性低k电介质薄膜、嵌入式应变硅与先进的退火技术。AMD并不会在45米制程上采用金属闸和高k电介质，但该公司将首次在…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-03/200732011946.htm -- 2007-3-2 0:00:00
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为了实现与主要竞争对手——英特尔并驾齐驱的目标，稍早前AMD发布了首批65nm制程的x86系列CPU，与现有90nm制程桌上型处理器相较，新款Athlon 64 X2处理器的芯片面积缩减了一半，功耗也下降了三分之一。 AMD始终紧盯着英特尔不放，该…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-02/200728115042.htm -- 2007-2-8 0:00:00
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台积电、联电手机芯片大客户德仪（TI）表示，继65纳米制程技术进入量产，目前已着手展开45纳米制程技术量产准备，并于45纳米制程技术节点导入Low-k绝缘材料，目前已初步决定采应用材料（Applied Materials）所研发的黑钻石（Black Diamond）及搭配化…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-01/2007116113425.htm -- 2007-1-16 0:00:00
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日厂东芝（Toshiba）、Sony、NEC电子（NEC Electronics）表示，将共同研发45纳米制程技术，量产数字家电、游戏机、服务器等高阶产品用系统芯片。 据悉，东芝、Sony、NEC电子合作研发的新制程有助于提高系统芯片的生产效能，亦欲藉由新技术，在韩…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2006-12/20061221032529.htm -- 2006-12-22 0:00:00
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KLA-Tencor推出Archer 100光学迭对量测系统(optical overlay metrology system)，新款45奈米制程工具在设计上可明显增加浸润式微影与未来双图样微影技术(double patterning lithography technologies)的准确性与生产能力。 Archer平台已经过全面性的重新设计，可解决先进…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2006-12/20061220115433.htm -- 2006-12-20 0:00:00
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为迎接45纳米制程世代，除了英特尔（Intel）计划于2007年投产，劲敌超微（AMD）也规划与IBM最快在2008年中投产45纳米制程芯片，加上台积电、联电、新加坡特许半导体（Chartered Semiconductor）皆将于2007年下半启动量产列车，使得45纳米制程设备近…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2006-12/20061215055532.htm -- 2006-12-15 0:00:00
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日系设备大厂TEL（Tokyo Electron）与荷兰设备商ASML日前宣布合作，未来携手进军次世代45奈米制程设备研发。由于目前ASML在45奈米制程设备以下领先佳能（Canon）、尼康（Nikon），是最大浸润式微影设备商，因此与TEL合作，对于龙头大厂美…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2006-12/2006127111437.htm -- 2006-12-7 0:00:00
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继台积电、新加坡特许半导体（Chartered Semiconductor）宣布45奈米制程技术已剧相当成熟度，联电也于20日宣布其南亚科12吋厂12A以浸润式微影技术成功产出45奈米测试芯片，联电对此先进制程研发的大跃进相当振奋。联电宣布的这项成果，也代表台积电…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2006-11/20061121062859.htm -- 2006-11-21 0:00:00
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针对45奈米及更先进的制程，EDA供货商新思科技(Synopsys)推出具备制程知识(process aware)的DFM解决方案(PA-DFM)，号称可以在设计阶段(不管是模拟设计或量身订做的设计)，即针对整个design-to-manufacturing的过程，有效分析制程变异(variability)的作用与…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2006-10/20061019032548.htm -- 2006-10-19 0:00:00
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