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KLA-Tencor 公司今天推出了PlasmaVolt™ X2，可用于在半导体晶圆处理系统中测量等离子室的状况。由于增加了内嵌式传感器数量，且空间分辨率得到改善，PlasmaVolt X2 对各种参数的变化极为敏感，例如无线电频率 (RF) 功率、气流、磁场及等离子室设…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-10/20081020035154.htm -- 2008-10-20 0:00:00
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KLA-Tencor 公司今天推出了 PlasmaVolt™ X2，可用于在半导体晶圆处理系统中测量等离子室的状况。由于增加了内嵌式传感器数量，且空间分辨率得到改善，PlasmaVolt X2 对各种参数的变化极为敏感，例如无线电频率 (RF) 功率、气流、磁场及等离子室设…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-10/20081020114722.htm -- 2008-10-20 0:00:00
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KLA-Tencor公司日前推出其最新的基于数据库(die-to-database)的晶圆表面光掩膜检测技术—— Wafer Plane Inspection™ (WPI)。WPI 让占据领先地位的逻辑电路厂商与光掩膜制造商能在检测光掩膜上缺陷的同时，评估这些缺陷是否有可能印到晶圆上。这是第…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-10/20081016025253.htm -- 2008-10-16 0:00:00
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KLA-Tencor 公司10日推出了 PROLITHTM 12 ，这是一款业界领先的新版计算光刻工具。此新版工具让领先的芯片制造商及研发机构的研究人员能够以具有成本效益的方式探索与极紫外线 (EUV) 光刻有关的各种光罩设计、光刻材料及工艺的可行性。 缩小芯片上重…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-10/20081013102023.htm -- 2008-10-13 0:00:00
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KLA-Tencor 公司今天推出了业界领先的新版计算光刻工具 PROLITHTM 12。该工具让领先的芯片制造商及研发机构的研究人员能够以具有成本效益的方式探索与极紫外线 (EUV) 光刻有关的各种光罩设计、光刻材料及工艺的可行性。 缩小芯片上重要器件的关键尺…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-10/20081010044920.htm -- 2008-10-10 0:00:00
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KLA-Tencor 公司今天针对硬盘驱动器基片与盘片高级缺陷检查推出了 Candela 7100 系列。7100 系列建立在备受肯定且已量产化的 Candela 产品线基础上，专为帮助制造商识别与分类诸如凹陷、凸起、微粒及隐藏缺陷等亚微米级关键缺陷而设计，可以提升良率，…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-09/2008925035303.htm -- 2008-9-25 0:00:00
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KLA-Tencor 公司日前推出了 Surfscan® SP2XP，这是一套专供集成电路 (IC) 市场采用的全新控片检测系统，该系统是根据去年在晶片制造市场上推出并大获成功的同名姊妹机台开发而成。全新的 Surfscan SP2XP 对硅、多晶硅和金属薄膜上的缺陷灵敏度更高，且…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-09/200895111831.htm -- 2008-9-5 0:00:00
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KLA-Tencor日前宣布，正在达成一项协议，以收购Vistec Semiconductor Systems旗下的微电子检测设备（MIE）业务。具体的交易细节尚未公布。Vistec的MIE部门是其3个三个业务部之一，Vistec Semiconductor Systems前身是莱卡微系统，2006年3月更名为Vistec。KL…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-08/200881053304.htm -- 2008-8-1 0:00:00
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KLA-Tencor 公司今天发布其最新的探针式表面轮廓测量系统 P-6™，该系统针对科学研究与生产环境（例如，光电太阳能电池制造）提供一组独特的先进功能组合。P-6 系统受益于在先进半导体轮廓仪系统上开发的测量技术，但却采用了较小与较经济的…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-07/2008717022349.htm -- 2008-7-17 0:00:00
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KLA-Tencor 公司今天推出其领先业界的最新版计算光刻机 PROLITH 11。这种新型光刻机让用户首次得以评估当前的二次成像方案，并以较低的成本针对光刻在设计、材料与制程开发等方面挑战，尝试不同的解决方案。这种新型计算光刻机还支持单次成像和浸…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-07/2008711112542.htm -- 2008-7-11 0:00:00
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KLA-Tencor 公司日前宣布推出 eS35 电子束侦测系统，该系统能够以大幅提升的速度检测和分类更小的物理缺陷，以及更细微的电子缺陷。eS35 属于 KLA-Tencor 的第十代电子束侦测系统，它具备更高的灵敏度，改善了单机检查和分类，并且显著加强了吞吐能力…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-07/200879010521.htm -- 2008-7-9 0:00:00
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KLA-Tencor 公司日前宣布推出 eS35 电子束侦测系统，该系统能够以大幅提升的速度检测和分类更小的物理缺陷，以及更细微的电子缺陷。eS35 属于 KLA-Tencor 的第十代电子束侦测系统，它具备更高的灵敏度，改善了单机检查和分类，并且显著加强了吞吐能力…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-07/200879104619.htm -- 2008-7-9 0:00:00
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KLA-Tencor 公司9日推出最新型叠对测量系统 Archer 200，它包含一个能够显著改善性能的增强型光学系统，这对于帮助客户在 32 纳米设计规格节点达到双次成图光刻更严格的叠对要求至关重要。客户还可以选择在 Archer 200 上增加 KLA-Tencor 先进的散射测量技…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-06/2008610012905.htm -- 2008-6-10 0:00:00
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KLA-Tencor 公司近日为其在新加坡的新厂房举行了正式揭幕庆典。利用这座厂房，该公司将大幅度提升其高精度制造能力，并扩大其广泛的培训、销售与公司职能。 新厂房位于新加坡实龙岗北5道4号，面积为17,400 平方米，可为KLA-Tencor领先的制…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-06/200868080236.htm -- 2008-6-11 0:00:00
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为半导体制造及相关行业提供制程控制解决方案的全球领先企业 KLA-Tencor 公司日前为其在新加坡的新厂房举行了正式揭幕庆典。该公司将利用这座厂房大幅度提升其高精度制造能力，并扩大其广泛的培训、销售与公司职能。 这座面积 17,400 平方米的新建厂…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-05/2008520030023.htm -- 2008-5-20 0:00:00
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