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ASM International N.V. and SAFC Hitech™, a business segment within SAFC®, a member of the Sigma-Aldrich® Group, today announced that they have entered into a certified manufacturer and partnership agreement for certain Atomic Layer Deposition (ALD) source materials for advanced Ultra High-k insula…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2009-01/200916035644.htm -- 2009-1-6 0:00:00
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IBM研究中心声称研究出世界上速度最快的石墨烯场效应晶体管，运行频率达到26GHz。 IBM Thomas J. Watson研究中心（位于纽约州Yorktown Heights）的研究人员预测随着碳的电子迁移率加快，该材料将超越硅的极限，达到100GHz以上，进入太赫兹频率范围。 I…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-12/20081226105305.htm -- 2008-12-26 0:00:00
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美国马萨诸塞LOWELL消息，可将光源转换为能源的Power Plastic材料开发和商业化领域的创新者Konarka技术公司宣布美国国家可再生能源实验室（NREL）验证得出结论-这种Konarka公司的柔性有机基太阳能光伏（PV）电池具有6%的光电转换效率。来自加利…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-12/20081220125005.htm -- 2008-12-20 0:00:00
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根据一家市场研究机构的报告，尽管半导体市场十分低迷，制造商不断寻求减小制造成本来增加利润，会加速纳米材料的应用。这家名为Information Network的机构在报告中表示，到2015年，纳米材料的年复合增长率将高于40%。明年，应用于半导体的纳米材…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-12/20081211103717.htm -- 2008-12-11 0:00:00
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麻省理工学院的研究人员日前在波士顿材料研究社团的年度会议上发布新的材料技术，他们提升了薄膜电阳能电池50%的转化效率，并采用更少的半导体材料来节省了成本。 传统的的太阳能电池采用较厚的，昂贵的硅基板，MIT研究人员表示他们运行了广泛…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-12/2008128100956.htm -- 2008-12-8 0:00:00
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近日，应用材料公司宣布推出Aera2™ for Lithography系统。半导体制造商通过运用该系统的IntenCD™技术可以提升硅片的临界尺寸一致性(CDU)超过20%，增加器件的良率并降低每片硅片的图形曝光成本。此外，Aera2™ for Lithography系统可以延…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-12/2008124095404.htm -- 2008-12-4 0:00:00
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应用材料公司正在努力加快TSV（through-silicon via穿透硅互连）的广泛应用。TSV是一项正在快速发展的新工艺，它将集成电路垂直堆叠，在更小的面积上大幅提升芯片性能并增加芯片功能。消费者希望电子产品变得更快更小，TSV对于满足这种需求至关重要…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-12/2008123102811.htm -- 2008-12-3 0:00:00
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应用材料公司近日宣布推出Applied Centura® Silvia™ Etch刻蚀系统，该系统专为高效、低成本的TSV(through-silicon via穿透硅互连)应用而设计。相对于竞争产品，Silvia系统能够提供更高的硅刻蚀率，并大幅度降低运营成本。此外，Silvia系统的精确轮廓控…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-12/2008123095050.htm -- 2008-12-6 0:00:00
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日前，美国应用材料（Applied Materials Inc.,Santa Clara, Calif.）宣布推出针对穿透硅通孔（through-silicon via，TSV）应用的刻蚀系统Centura Silvia。同时，应用材料表示，正在发货掩膜检测系统Aera2，该系统可使掩膜的常规检测在晶圆厂内实施，而不用由掩膜供应…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-12/2008122060116.htm -- 2008-12-2 0:00:00
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瑞典MEMS代工企业Silex为其新的八英寸线选择应用材料的设备。订单包括所有的刻蚀、介质CVD、铝PVD、铜阻挡层种子层的设备。在量产环境下满足MEMS硅刻蚀的需求是Silex的主要目标。将来的工作包括由应用材料提供工艺和集成技术帮助Silex建立体硅…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-12/2008121120148.htm -- 2008-12-1 0:00:00
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iSuppli Corp.日前指出，由于太阳能电池供应链供需不平衡，在2009年及随后几年内，太阳能电池用多晶硅价格将会下跌。 多晶硅现货市场价格从2007年的200美金/kg上涨到了500美金/kg，相应的硅片价格也在2008年涨到了13美金/片。根据iSuppli报告，…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-11/20081129014118.htm -- 2008-12-1 0:00:00
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美国应用材料公司西安全球研发中心日前在西安高新区奠基。该中心建筑面积达3.4万平方米，预计明年6月建成并投入初步运营。届时，应用材料公司在西安的投资总额将达到3亿美元。中心建成后将成为全球第一个集合了薄膜和晶体太阳能技术的大规模研…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-11/20081128110639.htm -- 2008-11-28 0:00:00
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JSR开发成功了可改善高亮度发光二极管（LED）发光效率的高折射率涂装材料以及提高LED可靠性所必需的新封装材料。该公司原来的涂装材料的折射率为1.7左右。新开发的高折射率涂装材料达到了约1.9。据该公司称，在用户评测中，已经确认在LED发光…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-11/20081126055414.htm -- 2008-11-26 0:00:00
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亚利桑那州立大学Flexible Display Center (FDC,柔性显示器研究中心)今天宣布应用材料(Applied Materials)经由旗下显示器商业产品集团AKT成为准会员(associate member) ，加入其它已与FDC合作的世界级技术，材料和工艺设备供应商的行列，研发先进柔性电子显示…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-11/20081125100030.htm -- 2008-11-25 0:00:00
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王瑞萍博士在应用材料公司一共工作了14年。前7年她在美国工作，最近7年都在中国工作。在担任应用材料公司太阳能事业部中国总经理之前，她在应用材料中国公司上海总部担任半导体技术总监的职位。两年前，应用材料收购Applied Films，成功进入太阳能…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-11/20081119065304.htm -- 2008-11-19 0:00:00
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