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英特尔公司完成了下一代制造工艺的开发工作，进一步把芯片电路缩小至32纳米。英特尔计划将于2009年第四季度推出基于高能效、更密集的晶体管的产品。英特尔公司将于下周在旧金山举行的国际电子器件会议（IEDM）上披露32纳米制程技术的相关细节…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-12/20081210054230.htm -- 2008-12-10 0:00:00
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2008年11月3日，美国弗吉尼亚州夏落茨威尔GE Fanuc智能设备，作为GE企业解决方案旗下的业务集团之一，于今天宣布为其过程解决方案之一的8000 过程 I/O 线路增添三款新模块。8129监督离散输入/输出模块，8132通用模拟输入模块以及拥有HART的8133模…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-11/20081124122839.htm -- 2008-11-24 0:00:00
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Rudolph Technologies, Inc. (NASDAQ: RTEC), a worldwide leader in process characterization solutions for the semiconductor manufacturing industry, today announced the receipt of orders from a major European semiconductor manufacturer for two WaferWoRx® 300 Probing Process Analysis Systems. The orders wer…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-09/200894034719.htm -- 2008-9-4 0:00:00
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参加AMETEK 商业企业在上海的开业典礼（从左到右）：AMETEK SPECTRO 中国副总裁Volker Dreisbach；AMETEK 公司资深副总裁兼财务总监 John Molinelli；外高桥现代服务贸易发展有限公司客户服务经理 Anne Huang；AMETEK 电子仪器|仪表集团公司总裁 David Z…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-08/200888112037.htm -- 2008-8-8 0:00:00
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微电子半导体解决方案全球领先厂商意法半导体宣布，采用经权威机构认证的电子系统级（ESL）系统芯片参考设计流程。 在十多个采用新设计流程开发的专用集成电路（ASIC）成功定案后，显示新设计流程较传统方法提高生产率四到十倍，已经在ST内…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-06/2008623043759.htm -- 2008-6-24 0:00:00
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在芯片的生产过程中，会经历许多次的掺杂、增层、光刻和热处理等工艺制程，每一步都必须达到极其苛刻的物理特性要求。但是，即使是最成熟的工艺制程也存在不同位置之间、不同晶圆之间、不同工艺运行之间以及不同时段之间的变异。有时，这种变异…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-06/200863094213.htm -- 2008-6-3 0:00:00
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热量过程开发和控制产品领导者及多项行业大奖获得者KIC公司日前宣布，它已经进入电子行业30年的时间。 KIC于1977年由Casey Kazmierowicz成立，通过推出微机传送带化炉子，进入电子行业。此后，KIC取得了长足发展，成为回流焊、波焊和半导体热温度…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-02/2008225115300.htm -- 2008-2-25 0:00:00
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document.write("") Al Polymer Remover Can Affect CD Measurement Al线刻蚀后湿法清除聚合物过程对CD测试的影响 Ke Lian, Department Manager of FAB1 Engineering-3 Division, WET-ONLINE Department, HHNEC 水会改变氟系药液的刻蚀速率。药液的刻蚀作用会改变CD的测试波形…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-09/200793055004.htm -- 2007-9-3 0:00:00
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气泡存储技术又杀回来了──可是这次是面向逻辑应用的微流体版本，而不是上世纪70年代TI采用的磁性方法。微流体气泡由麻省理工学院(MIT)发明，用于逻辑而非存储。据称气泡逻辑能取代电子电路，对微流体器件的片上过程控制进行编码。 MIT位原子中…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-03/2007325040506.htm -- 2007-3-26 0:00:00
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意法半导体(ST)近日发表了一个完整的能够收集处理特定生物分子(biological molecules)的芯片原型。该原型以ST经市场验证、采用MEMS技术的实验室单芯片(lab-on-chip)组件为基础，可望为医学与法医领域的样品制备(sample preparation)提供低成本解决方案。 该原…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2006-12/20061215101124.htm -- 2006-12-15 0:00:00
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世界500强美国艾默生电气集团旗下的过程控制有限公司近日与南京江宁科学园签订协议，新建艾默生过程控制流量技术有限公司。据报道，一期投资将达3000万美元，预计2011年产值可达2亿美元。据悉，这是继艾默生集团在南京设立研发中心之后，又一项…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2006-12/20061214014132.htm -- 2006-12-14 0:00:00
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document.write("")Optimized Filter Priming Method to Minimize Maintenance Downtime Traci Batchelder，Entegris, Inc 优化过滤器排泡过程减少维护保养的停机时间 半导体关键尺寸逐渐变小，要把缺陷密度控制在很低范围，可以在使用点终端使用小孔径的过滤器。 减少过滤器的…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2006-11/2006118030313.htm -- 2006-11-8 0:00:00
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薄膜晶体管液晶显示器（TFT-LCD）通常采用两个加工过程并行进行加工成成品，如图1所示。其基本工艺如下： 图1. TFT-LCD 工艺流程图 ● 通过前玻璃基板/彩色滤光基板工艺过程形成精确排列的彩色滤光层。 ● 薄膜基板工艺形成薄膜晶体管液晶…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2005-2/200611214305170598.htm -- 2005-2-24 0:00:00
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KLA-Tencor公司提供据称是第一种真线性监视解决方案AF-LM 300，这种解决方案适用于基于原子力显微镜的沟道深度和表面二维过程控制。 据KLA-Tencor公司说，与传统AFM相比，AF-LM 300可靠性高，使用简单，可提高生产率。AF-LM 300将…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2004-7/200611214304806ebc.htm -- 2004-7-13 0:00:00
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最近，Infineon Technologies公司提出了一种新的可靠性认证方法，它可以改善资源配置，缩短新产品认证所需要的时间。几个项目的实际论证结果证明，Infineon提出的失效物理分析（physics-of-failure，PoF）概念确实是行之有效的。 传统的可靠性论证方…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2004-5/200611214304827997.htm -- 2004-5-16 0:00:00
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