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赛斯纯气体公司日前宣布对其应用于半导体工业的洁净干燥空气净化系统的产品线进行扩展。 光学设备，比如光刻和测量设备，使用洁净干燥空气进行各种用途的吹扫。吹扫气体有可能把不需要的气态污染物引入光学镜片和硅片区域。这种污染物会吸收光，…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-05/2007515054350.htm -- 2007-5-15 0:00:00
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BOC Edwards, a leading supplier of vacuum, abatement, chemical management equipment and services to the world’s semiconductor OEMs and fabs, announced today the new family of ATLAS™ gas abatement solutions for semiconductor manufacturers. The ATLAS systems meet the industry’s need f…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-03/2007321112038.htm -- 2007-3-21 0:00:00
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BOC Edwards最新一代气体净化处理系统ATLAS使用NF3气体及等离子体处理技术，能够以较低的成本处理包括增强型等离子化学气相淀积、高密度等离子化学气相淀积、钨化学气相淀积在内的各类化学气相淀积工艺排放的气体。设备可以净化处理包括…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-03/2007311030548.htm -- 2007-3-13 0:00:00
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BOC Edwards最新一代气体净化处理系统ATLAS使用NF3气体及等离子体处理技术，能够以较低的成本处理包括增强型等离子化学气相淀积、高密度等离子化学气相淀积、钨化学气相淀积在内的各类化学气相淀积工艺排放的气体。设备可以净化处理包括氟、…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-03/200739034402.htm -- 2007-3-9 0:00:00
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为满足净化间垂直气流需求而预制的标准化560系列净化间硬墙具备进一步扩充的潜力。整体硬墙结构只需要一块实心地板支撑。整个区域可以根据用户实际生产的需求进行改造或重新布局。地面可以被加固或被提高。产品能够和高效微粒空气密封圈以…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2006-05/2006511023223.htm -- 2006-5-12 0:00:00
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碳氟工艺（FCP）媒介设计用来去除分子级沾污，可以达到ppb级以下，协助提高65nm IC器件的制造良率。它被设计用来与公司GasKleen净化器一并使用，通过不可逆的化学反应去除氧、湿气、二氧化碳以及其它杂质。这种净化装置适合作为传统颗粒过滤器…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2005-12/20051230111450.htm -- 2005-12-30 0:00:00
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碳氟工艺（FCP）媒介设计用来去除分子级沾污，可以达到ppb级以下，协助提高65nm IC器件的制造良率。它被设计用来与公司GasKleen净化器一并使用，通过不可逆的化学反应去除氧、湿气、二氧化碳以及其它杂质。这种净化装置适合作为传统颗粒过滤…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2005-11/2006112143053f6ffd.htm -- 2005-11-16 0:00:00
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