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Torrento系列高流量液体过滤器帮助提高对纳米级流体微污染的控制，用于半导体制造的湿法刻蚀和清洗工艺。20nm的过滤器采用特制的非反润湿（non-dewetting）特氟纶隔膜技术，能够吸收污染微粒而不仅仅是筛选微粒，并能为设备提供理想的液体流量…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-08/2008830072951.htm -- 2008-9-2 0:00:00
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连排的冷却过滤器可以提高热性能，因而获得较强的环境保护和更高的可靠性。该过滤器采用了增强的膜技术，允许流量更大的气流通过过滤器，因而将冷却能力提高了20%。与此同时，通过防止沾污进入，该层膜还保护了电子器件。扩展的PTFE膜对0.…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-07/200876055237.htm -- 2008-7-6 0:00:00
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TorrentoTM系列产品是最新的Non-dewetting Teflon过滤器。TorrentoTM源自Mykrolis先进的微污染控制技术，应用于湿法刻蚀和清洗工艺，过滤器在20nm过滤孔径下仍能为设备提供理想的液体流量。对于先进的半导体湿法工艺，TorrentoTM缩短了循环槽清洗…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-03/2008311085337.htm -- 2008-3-11 0:00:00
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Pall UltiKleen Excellar ERL 是最新的非去湿PTFE膜的化学品过滤器。该产品具有20nm的颗粒去除能力，满足小于65nm工艺节点的先进制程需求。超大的过滤面积设计，使产品具有较大的流量特性和更长的使用寿命，降低设备运营成本（CoO）。Pall UltiKleen 技…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-03/2008311082537.htm -- 2008-3-11 0:00:00
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document.write("")Filtration Solutions For 300mm High Performance REB Systems300mm高性能REB系统的过滤方案Albert Chen,GPS Manager, Liquid Microcontamination Asia,Entegris随着更高制程技术的引进，关键颗粒变小，对于纳米级颗粒和金属离子污染的控制变得越发关键，而…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-09/200793053326.htm -- 2007-9-3 0:00:00
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传输系统一般用于供应研磨液，这种研磨液用于在生产半导体芯片过程中的平整晶圆的工序。这种系统通过对研磨液加压使之得以传输到使用设备上去，并使研磨液不断循环以使得颗粒保持悬浮状态。有多种方法可以实现对研磨液的加压和循环，包括各…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-08/2007811125942.htm -- 2007-8-14 0:00:00
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CUNO Incorporated最近发布了其新产品NanoShield，它能去除小至10nm的污染物，流速是传统过滤器的3倍。应用于45纳米和65纳米节点的193nm光刻技术倍受缺陷率问题的困扰，比如微桥连。据CUNO市场部总监Chris Tsourides介绍，当芯片制造商开始进入…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-03/2007310073637.htm -- 2007-3-13 0:00:00
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document.write("")Optimized Filter Priming Method to Minimize Maintenance Downtime Traci Batchelder，Entegris, Inc 优化过滤器排泡过程减少维护保养的停机时间 半导体关键尺寸逐渐变小，要把缺陷密度控制在很低范围，可以在使用点终端使用小孔径的过滤器。 减少过滤器的…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2006-11/2006118030313.htm -- 2006-11-8 0:00:00
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摘要 使用孔径更小的颗粒过滤器会带来更大的液体压力损失，导致流量降低。300mm的制程需要液体有更高的流量。所以过滤技术必须有所提高。 随着半导体制造技术不断发展，最小线宽不断缩小，对于纳米级颗粒和金属离子污染的控制变得越发关…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2006-10/20061014080445.htm -- 2006-10-15 0:00:00
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Entegris宣布推出其全新Intercept Plus HPM过滤产品。该公司表示，Intercept技术已获专利，是半导体产业中唯一采用双效微粒捕获技术的过滤器，能使微粒截除效果极大化，缩短工艺启动时间，改善工艺能力，并降低芯片缺陷。 该种甫发表可提高良率的技术，…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2006-10/2006109112638.htm -- 2006-10-9 0:00:00
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document.write("")High Area Chemical Filter Enables High Flow and Nano-size Particle Retention with Low Pressure Drop 高的区域化学过滤器获得低压降下的高流量和纳米级微粒保持 Entegris, Inc. ，蔚健 ·随着CD尺寸的缩小和晶圆面积的增大，过滤面临着进退两难的局面。 …
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2006-09/200694043829.htm -- 2006-9-4 0:00:00
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紧凑型设计的109BL系列机械化顶蓬过滤器可以安装在直角枝管型的顶部网格棚架结构上。全金属外罩的过滤器由铝制外框、预过滤装置、装有动力系统的送风机和高效微粒空气过滤模块构成。其平均风速达到90 ft/min。经测试对于直径为0.3微米的颗粒过滤…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2005-12/20051230023329.htm -- 2005-12-30 0:00:00
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紧凑型设计的109BL系列机械化顶蓬过滤器可以安装在直角枝管型的顶部网格棚架结构上。全金属外罩的过滤器由铝制外框、预过滤装置、装有动力系统的送风机和高效微粒空气过滤模块构成。其平均风速达到90 ft/min。经测试对于直径为0.3微米的颗粒过…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2005-10/2006112143053b15dc.htm -- 2005-10-10 0:00:00
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; ; ; ; ; Ultipleat ME过滤器专为协助芯片制造商提高半导体刻蚀量产工艺的性能、流片量和成品率而设计。为氢氟酸深亚微米过滤和缓冲氧化物腐蚀槽循环工艺提供较高流速。可过滤50nm以上杂质。过滤器的滤除率达99.9%以上。 Pall Corp. www.pall.com
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2005-7/2006112143052ce067.htm -- 2005-7-8 0:00:00
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新款Ultipleat PK大流量化学过滤器通过减小系统尺寸和复杂度，使得制造商能够降低总的运行成本。该Ultipleat PK大流量过滤器是为最新的薄膜晶体管液晶显示器的制造厂设计。它可以制造尺寸大到1,800mm×2,150mm(6英尺×7英尺)的衬底。为了能够处理大…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2005-2/20061121430515fc52.htm -- 2005-2-2 0:00:00
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