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据EETimes报道，欧洲研发机构IMEC首席运营官Luc Van den Hove表示，IMEC将在2010年上半年制成预投产EUV（极紫外）光刻设备。 按照目前的进程，该设备将于2012年在IMEC的300mm生产线上投产。尽管对于EUV在商业制造中的合理性尚存疑问，然而IME…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-10/20081020105831.htm -- 2008-10-20 0:00:00
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奥地利EV Group（EVG）宣布，为形成手机用相机模块高耐热镜头，芬兰Heptagon Oy采用了EVG的光刻机(Mask Aligner)“IQ Aligner”。EVG高级副总裁Hermann Waltl表示，Heptagon采用的是支持300mm晶圆的装置。该装置已提供给Heptagon的制造子公司——新加坡He…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-07/2008724024101.htm -- 2008-7-24 0:00:00
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针对38nm存储器和32nm逻辑芯片产品的量产化制造，荷兰光刻巨头ASML日前展示了其Twinscan XT:1950i光刻系统，采用1.35NA（数值孔径）的镜头，通过提高套刻精度、分辨率和生产能力，该浸没式光刻系统的整体性能提升了25%。ASML表示，Twinscan XT:…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-07/2008717043525.htm -- 2008-7-17 0:00:00
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KLA-Tencor 公司今天推出其领先业界的最新版计算光刻机 PROLITH 11。这种新型光刻机让用户首次得以评估当前的二次成像方案，并以较低的成本针对光刻在设计、材料与制程开发等方面挑战，尝试不同的解决方案。这种新型计算光刻机还支持单次成像和浸…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-07/2008711112542.htm -- 2008-7-11 0:00:00
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http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-04/200844100438.htm -- 2008-4-8 0:00:00
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嵌入式OPC通过在图形化前对掩膜图形数据做CD校正，可大大改进光掩膜的CD线性度和近似特性。 过去只能采用可变成形电子束系统印制临界和亚临界的65与45 nm光掩膜。该系统的刻写时间取决于数据量大小，并且比较昂贵。现在，通过对掩膜制…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-04/200844100438.htm -- 2008-4-7 0:00:00
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上海微电子装备有限公司（SMEE）自主研发的SSB500/10A步进投影光刻机将在国内半导体封装线上实现商用。据悉，即将实现商用的SSB500/10A可满足200mm和300mm硅片的多种凸块后封装厚胶工艺需求。 SSB500/10A采用高功率汞灯的g、h、i线作…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-04/200843100301.htm -- 2008-4-7 0:00:00
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近日，中国电子专用设备工业协会、中国半导体行业协会、中国电子材料行业协会和《中国电子报》联合举办了2007年度中国半导体创新产品和技术奖评选。中科院光电所研发的URE-2000系列紫外深度光刻机在评选中脱颖而出，获得殊荣。 该系列产品在分…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-03/2008311112316.htm -- 2008-3-11 0:00:00
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合肥经济开发区管委会对外宣布，具有世界领先水平、完全属于自主知识产权的国内第一台无掩膜式(直写式)“光刻机”在合肥研制成功，这标志着我国亚微米级光刻机完全依赖进口的局面被打破。 据介绍，光刻机项目之所以重大高端，是因为它是生产芯片的…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-01/200819022241.htm -- 2008-1-9 0:00:00
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12月25日，国内首台直写式光刻机在合肥成功面世，标志着我国亚微米级光刻机完全依赖进口的局面被打破。位于合肥经济技术开发区的芯硕半导体（中国）有限公司此次研制的直写式光刻机，操作便捷、运行成本低，产品处于世界同类产品领先水平。 我国…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-12/20071226033440.htm -- 2007-12-26 0:00:00
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采用特殊照明方式的高/超高数值孔径（NA）的193nm光刻机和相位移掩膜版（PSM），使得光刻分辨率的极限达到了32nm节点。不利的因素是掩膜的复杂度正在以指数级递增，而业界又迫切需要通过精确的相位控制以达到必需的高成品率。 光刻机…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-12/20071216113709.htm -- 2007-12-18 0:00:00
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国内首台具有世界领先水平、拥有自主知识产权的直写式光刻机即将于12月底在合肥面世，标志着我国亚微米级光刻机完全依赖进口的局面将被打破。 据悉，由芯硕半导体（合肥）有限公司生产的两台直写式光刻机样机已进入最后的总装调试阶段，其分辨率…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-11/20071122024247.htm -- 2007-11-22 0:00:00
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国内首台具有世界领先水平、拥有自主知识产权的直写式光刻机即将在合肥面世，标志着我国亚微米级光刻机完全依赖进口的局面将被打破。 记者从位于合肥市经济开发区的芯硕半导体（合肥）有限公司了解到，该公司生产的两台直写式光刻机样机已进入最…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-11/20071114024146.htm -- 2007-11-14 0:00:00
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Mapper Lithography日前宣布其多光束无掩膜光刻机的研发取得了里程碑式的进展，这种新型光刻机将用于先进芯片的制造。 Mapper表示，公司已经验证了该设备可实现大面积平行电子束绘制，并适用于32纳米节点技术。 Mapper对于该设备的开发已有时日。该…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-09/2007917115711.htm -- 2007-9-17 0:00:00
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NSR-SF 150是一款扫描场i线步进式光刻机，其超高的吞吐量甚至高于180 wph。该系统采用最尖端的透镜技术，可以像DUV扫描式光刻机那样实现同样的宽曝光场。该光刻机还可以用于下一代存储器和微处理器中亚关键层的量产。采用了伸缩式减震器可…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-04/2007422043552.htm -- 2007-4-24 0:00:00
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