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闪存不断推动着器件尺寸等比例缩小的进程，高数值孔径浸没式光刻使得45 nm及以下技术节点成为可能。一些掩膜参数对于成像性能有很重要的影响，并且曝光前掩膜的空间成像可以用于定义成像质量。 近些年来，闪存已经成为半导体行业中最为重…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-11/20081129020201.htm -- 2008-12-3 0:00:00
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KLA-Tencor 公司今天推出了PlasmaVolt™ X2，可用于在半导体晶圆处理系统中测量等离子室的状况。由于增加了内嵌式传感器数量，且空间分辨率得到改善，PlasmaVolt X2 对各种参数的变化极为敏感，例如无线电频率 (RF) 功率、气流、磁场及等离子室设…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-10/20081020035154.htm -- 2008-10-20 0:00:00
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KLA-Tencor 公司今天推出了 PlasmaVolt™ X2，可用于在半导体晶圆处理系统中测量等离子室的状况。由于增加了内嵌式传感器数量，且空间分辨率得到改善，PlasmaVolt X2 对各种参数的变化极为敏感，例如无线电频率 (RF) 功率、气流、磁场及等离子室设…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-10/20081020114722.htm -- 2008-10-20 0:00:00
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凌力尔特公司 (Linear Technology Corporation) 推出宽带 6GHz RMS 检测器 LT5581，该器件具有 40dB 动态范围和 1.4mA 低工作电源电流。LT5581 非常适合于便携式和由电池供电的无线系统、蜂窝基站、微微蜂窝和毫微微蜂窝、光纤发送器以及仪表中的多种电源监视…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-10/2008107044417.htm -- 2008-10-7 0:00:00
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新兴测量需求解决方案领导者美国吉时利（Keithley）仪器公司，凭借其推出的业界第一款测量级8×8 MIMO系统进一步扩大其在射频MIMO（多输入多输出）测试领域的领先地位。该系统适用于下一代射频MIMO器件与技术的基础性研究。吉时利在2007年末推…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-08/2008827105543.htm -- 2008-8-27 0:00:00
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KLA-Tencor 公司今天发布其最新的探针式表面轮廓测量系统 P-6™，该系统针对科学研究与生产环境（例如，光电太阳能电池制造）提供一组独特的先进功能组合。P-6 系统受益于在先进半导体轮廓仪系统上开发的测量技术，但却采用了较小与较经济的…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-07/2008717022349.htm -- 2008-7-17 0:00:00
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KLA-Tencor最新型叠对测量系统Archer 200，包含一个能够显著改善性能的增强型光学系统，这对于帮助客户在 32 纳米设计规格节点达到两次成像光刻更严格的叠对要求至关重要。客户还可以选择在 Archer 200上增加 KLA-Tencor 先进的散射测量技术，以在…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-07/200876055304.htm -- 2008-7-6 0:00:00
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KLA-Tencor 公司9日推出最新型叠对测量系统 Archer 200，它包含一个能够显著改善性能的增强型光学系统，这对于帮助客户在 32 纳米设计规格节点达到双次成图光刻更严格的叠对要求至关重要。客户还可以选择在 Archer 200 上增加 KLA-Tencor 先进的散射测量技…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-06/2008610012905.htm -- 2008-6-10 0:00:00
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科学家们在连续观测过程中尽量不扰乱量子态相干。以色列和德国科学家近期展开合作，将通过对量子态进行观测来控制热力学（温度）和熵（沉降）这项技术的开发提上日程。 科学家们声称在一个二能级量子系统（像那些用于表征量子比特(q-bits)的量…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-06/200865055714.htm -- 2008-6-6 0:00:00
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Metryx晶圆质量测量设备供货商Metryx今天宣布将与汉民科技合作，一起在中国台湾，中国，及新加坡推销Metryx 的设备。 这项合作协议包含销售，服务，及支持Metryx质量测量的器材。这项协议已于今年4月1日生效.主要的工程人员已在Metryx的英国总部接受…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-05/200858031049.htm -- 2008-5-8 0:00:00
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NanoCD软件套装包括四个关键的光学CD测量方案：NanoGen、NanoMatch、NanoStation和NanoDiffract。该公司用于OCD测量的主要是Atlas和9010系统，该软件套装主要完成对上述系统的功能优化和连接。它从所有的工艺流程获得数据并允许用户将信息输入到…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-04/2008429041434.htm -- 2008-4-29 0:00:00
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http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-04/200844031735.htm -- 2008-4-24 0:00:00
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英特尔公司技术战略部门，材料研究组经理Michael Garner，在2007年国际纳电子表征与测量前沿会议（2007 International Conference on Frontiers of Characterization and Metrology for Nanoelectronics）上列举了在纳米科技时代测量技术需要克服的几个障碍。1 Garner…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-04/200844031735.htm -- 2008-4-7 0:00:00
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在前期深厚积累的基础上，我们预计2008年将又是质量测量技术向前发展的一年。300 mm工艺控制测量市场将继续向用于“量产”晶圆测量的低成本、非损伤性测量技术进行投资。测量检查将继续向高频发展，在采用了新材料和复杂工艺流程的先进技术节点，…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-03/2008313033210.htm -- 2008-3-13 0:00:00
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以色列半导体测量设备供应商NovaMeasuringInstruments公司日前宣布，其NovaScan独立式（stand-alone）测量设备再次获得中国最大晶圆厂商的订单。Nova与客户之间的协议包括独立测量、集成测量（integratedmetrology）及NovaMARS应用方案，交易总额数百万…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-03/200835125952.htm -- 2008-3-5 0:00:00
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