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FSI International Inc.公司宣布，将以Orion设备进军单晶圆清洗市场，并指出，在32nm及更高节点单晶圆清洗技术的需求将快速增加。尽管之前FSI依靠其批处理喷雾系统在批处理解决方案上获得越来越多的控制权，但这家清洗设备制造商表示，单晶圆清洗方案…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-11/2008115020013.htm -- 2008-11-5 0:00:00
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http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-10/20071011084558.htm -- 2007-10-15 0:00:00
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成立于2001年的北京华林伟业有限公司是一家专注于半导体湿法清洗腐蚀设备的本土供应商。在中国大陆半导体产业快速成长的初期进入清洗领域，华林伟业可谓选准了目标和时机，但同时也面临国内外同业者的巨大竞争压力。 据华林伟业有限公司…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-10/20071011084558.htm -- 2007-10-16 0:00:00
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半导体表面处理设备厂商Akrion, Inc.日前宣布公司将一台用于200mm半导体晶圆清洗的E200系统出售给了一家位于美国的晶圆厂。据悉，此番出售的E200系统将用于光刻胶剥离和刻蚀工艺，以制造用于消费电子产品的芯片。 据悉，这是Akrion在爱达荷州Boise的…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-06/2007615101302.htm -- 2007-6-15 0:00:00
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303系列水平层流湿法清洗槽提供10级或100级的净化环境。机体采用净音设计，工作嘈声仅为65调准分贝。设备采用前部开放操作方式并能够根据需求选择对应模块独立工作。高效微粒空气过滤器能够过滤水平层流气体，防止颗粒和其它污染物玷污净化…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2006-09/200699015425.htm -- 2006-9-9 0:00:00
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作者：Jürgen Funkhä At a GlanceAlthough it has often been called into question, wet processing is still state-of-the-art in chip fabrication. And drying is the most important wet process step. Driven by technology developments and increasing performance requirements, the well-known Marangoni drying principle has been i…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2004-10/200611214304972efa.htm -- 2004-10-14 0:00:00
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