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FSI International Inc.公司宣布，将以Orion设备进军单晶圆清洗市场，并指出，在32nm及更高节点单晶圆清洗技术的需求将快速增加。尽管之前FSI依靠其批处理喷雾系统在批处理解决方案上获得越来越多的控制权，但这家清洗设备制造商表示，单晶圆清洗方案…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-11/2008115020013.htm -- 2008-11-5 0:00:00
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在集成电路制造中随着光阻层数的增加和可允许的材料损失和表面损伤数的下降， 光阻剥离变得越来越具有挑战性。由于光阻表面的去氢化和无定型碳层的形成，高剂量注入的光阻剥离尤其变得困难[1]。为了使注入后光阻剥离变得容易，这层无定形碳可以采…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2008-11/2008114015235.htm -- 2008-11-4 0:00:00
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CenTurio是一套高效湿法工艺系统，并配备有CenTurioDry干法工具和极其有效的清洗系统。该系统可用于大部分衬底材料的一般刻蚀和/或清洁工艺。 AP&S International GmbH www.ap-s.de
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-12/20071217102420.htm -- 2007-12-18 0:00:00
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http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-10/20071011084558.htm -- 2007-10-15 0:00:00
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成立于2001年的北京华林伟业有限公司是一家专注于半导体湿法清洗腐蚀设备的本土供应商。在中国大陆半导体产业快速成长的初期进入清洗领域，华林伟业可谓选准了目标和时机，但同时也面临国内外同业者的巨大竞争压力。 据华林伟业有限公司…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-10/20071011084558.htm -- 2007-10-16 0:00:00
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SSEC 3404湿法处理器可用于平板显示器的制造，实现以每小时100片的速度生产面积达500 x 500 mm的平板。采用单一加工平板技术，该系统提供全自动的干燥进料/干燥出料方案，可以以最低的投入成本获得最高的质量性能。 SSEC 3404的四步工艺模…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-09/200799123505.htm -- 2007-9-11 0:00:00
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AP&S International GmbH, a specialist in the design and manufacture of wet processing clean room systems and equipment for the treatment of substrate surfaces, will introduce its latest product innovation,CenTurioTM, at SEMICON Europa 2007. During the trade exhibition, which will takeplace for the first time ever at the ne…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-09/200797111857.htm -- 2007-9-7 0:00:00
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document.write("") Al Polymer Remover Can Affect CD Measurement Al线刻蚀后湿法清除聚合物过程对CD测试的影响 Ke Lian, Department Manager of FAB1 Engineering-3 Division, WET-ONLINE Department, HHNEC 水会改变氟系药液的刻蚀速率。药液的刻蚀作用会改变CD的测试波形…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-09/200793055004.htm -- 2007-9-3 0:00:00
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document.write("")Evaluation of all wet PR Strip Clean by Using Single Wafer Clean Tool对使用单晶圆清洗平台进行全湿法光阻去除工艺的评估Steven Piao,Manager of Diffusion & Wet Clean Department, LTD, SMIC超大规模CMOS制造技术发展到65nm及更高技术节点，LDD（轻掺杂漏…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-09/200793054512.htm -- 2007-9-3 0:00:00
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document.write("")In-situ analysis of multi-component chemistries for wet processing湿法制程多组分化学品的原位分析Chenting Lin, Director of Business Development, Greater China,ECI Technology光谱法和电阻分析法多用于单组分解决方案，而滴定法具有高精度和稳定性，但对于实时…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-09/200793053011.htm -- 2007-9-3 0:00:00
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半导体表面处理设备厂商Akrion, Inc.日前宣布公司将一台用于200mm半导体晶圆清洗的E200系统出售给了一家位于美国的晶圆厂。据悉，此番出售的E200系统将用于光刻胶剥离和刻蚀工艺，以制造用于消费电子产品的芯片。 据悉，这是Akrion在爱达荷州Boise的…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-06/2007615101302.htm -- 2007-6-15 0:00:00
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借着Semicon China 2007的举行，SEZ向业界介绍了其最新推出的EsantiTM系统，这是一套灵活的、具备多反应仓的单晶圆处理平台，专为满足未来技术节点前段工艺过程（FEOL）清洗需求而设计的，能够完成45纳米及其更低尺寸器件制造过程中FEOL（前…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-03/2007329074645.htm -- 2007-3-29 0:00:00
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Tokyo Electron Ltd.先进的自动化湿法工艺设备“Expedius+”用于45nm及其以下技术节点的300mm量产的生产线前段(FEOL)清洗、腐蚀和去胶制程。Expedius+的占地面积减小了20%，并通过缩短晶圆交换时间极大地提高了生产效率，产能达到每小时60…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-03/2007315063332.htm -- 2007-3-15 0:00:00
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由飞利浦研究实验室(Philips Research Labs)的独立出来的Liquavista BV正在计划投资大约250万美元，用于电润湿法显示技术工艺过程开发线。 Liquavista2006年4月由飞利浦研究实验室及New Venture Partners成立，目的是把公司创始人Rob Hayes和Johan Feenstra于2002年…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2006-09/2006920011302.htm -- 2006-9-20 0:00:00
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303系列水平层流湿法清洗槽提供10级或100级的净化环境。机体采用净音设计，工作嘈声仅为65调准分贝。设备采用前部开放操作方式并能够根据需求选择对应模块独立工作。高效微粒空气过滤器能够过滤水平层流气体，防止颗粒和其它污染物玷污净化…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2006-09/200699015425.htm -- 2006-9-9 0:00:00
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