|
Raytex开发出了能够检测液浸曝光用积层光刻胶是否均匀无缺陷地涂布至硅晶圆边缘部分的装置“RXW-1200G4”， 预定于2008年2月上市。 该装置设想应用于在晶圆边缘检测后还需利用扫描电子显微镜（SEM）进行微检测的场合，能够以数据的形式输出角…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-11/20071121093635.htm -- 2007-11-21 0:00:00
|
|
Rudolph Technologies 日前宣布将为光刻设备供应商ASML Holding NV (ASML)提供边缘检测工具，助其提升浸没式光刻工艺中晶圆缺陷检测控制过程,使浸没式光刻生产能力最大化。 缺陷检测工作将在ASML荷兰Belhaven总部进行，并利用Rudolph公司全套表面检测系…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-09/200797102133.htm -- 2007-9-7 0:00:00
|
|
Rudolph Technologies (NASDAQ:RTEC) announced today it has provided an edge inspection tool to lithography system provider ASML Holding NV (ASML) (Euronext Amsterdam, NASDAQ: ASML) to help characterize wafer defects originating from process control issues at the wafer edge and accentuated by the immersi…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-09/200795013059.htm -- 2007-9-5 0:00:00
|
|
VisEdge CV300是一款晶圆边缘检测系统，可采用高敏感度或晶圆边缘扫描模式，用于宏观或微观缺陷的检测。该系统的同步多通道信号获取技术将散射仪、反射计、移相器和光束偏移结合起来，可以在探测缺陷源时得到更高的精确度。先进的基于规则的…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2007-04/2007422043438.htm -- 2007-4-24 0:00:00
|
|
2006 年 10 月 26 日,KLA-Tencor今天正式发布其最新的 VisEdge CV 300 边缘检测系统。VisEdge CV 300 采用了 KLA-Tencor 从并购 Candela Instruments 中获得的成熟的光学表面分析仪 (OSA) 技术，成为半导体行业内第一套能全面满足生产环境中晶片边缘检测所需的解决方…
http://www.sichinamag.comhttp://article.sichinamag.com/2006-10/20061026015438.htm -- 2006-10-26 0:00:00
|