A summary of photolithography in march 2007
Wu Qiang, ASML
伍强，ASML公司设备应用部经理。曾经担任上海华虹NEC电子有限公司技术开发部光刻组的经理。伍强毕业于负担大学物理系，并于1999年取得美国耶鲁大学物理学博士学位、光学工程博士。在加入华虹NEC之前，曾在美国IBM公司任职。伍强先生曾在SPIE（国际光学工程学会）和国内众多媒体杂志上发表多篇论文和报道，并拥有3项美国专利。他同时也是《半导体国际》专委会成员。
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