• 降低探针测试成本的实用方法
  • 晶圆探针测试成本通常集中在探针卡和探针卡的非重复性工程（NRE）费用的显而易见成本上，本文将指出其它可显著降低晶圆探针测试成本的重要因素。
  • 用于先进栅叠层的在线光谱分析法
  • 量测平台的复杂性和光学原理上的局限性制约着测量系统的应用，直到真空紫外光谱反射仪的出现，这种状况才得到改变。
  • 量测推动纳米技术进步
  • 无论是利用MEMS还是碳纳米管，纳米技术的各个方面都需要高端的检测技术来实现制造工艺和器件集成。需要测量传统的CMOS性质的检测技术，但还有其它特性需要测量。比如，对于ME…
  • 基于AFM的“素描刻蚀”法画出纳米图形
  • 匹兹堡大学的研究人员设计了一种方法，可以使用原子力显微镜（AFM）绘画，擦除和修改小于4 nm的导线和直径为2 nm的点，该方法与古老而又流行的素描刻蚀有几分相似。AFM所画的线…
应用材料推出Extensa PVD系统 为存储芯片制造提供关键的铜阻挡层技术
应用材料推出Extensa PVD系统 为存储芯片制造提供关键的铜阻挡层技术
近日，应用材料公司推出Applied Endura® Extensa™ PVD（物理气相沉积）系统，这是业界唯一在…［详细］
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  • Keithley未雨绸缪

  • Keithley未雨绸缪

    创建于1946年的吉时利（Keithley）仪器公司，专注于测试和测量领域，其产品覆盖电子生产加工测试、平板显示器/光电子测试、半导体器件参数测试和晶圆工艺监控、无线…

  • 20080721：清洗

    雾状缺陷每年花费10亿美元，仍被误解；EUV掩膜版清洗—Intel的解决之道；浅结工程…

    20080714：光刻

    Intel：2011年前EUV无法在22nm大展拳脚；纳米压印光刻在CMOS HDD中的快速发展；L…

    20080707：晶圆工艺

    自对准阻挡层提高互连的可靠性；一种用于制造基于穿透硅通孔的三维集成电路之综合…

    20080702：设备与材料

    新型膜材料保护薄膜太阳能电池；Sematech关于锗材料的研究计划；磁学是实现高温超…
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