• 量测推动纳米技术进步
  • 无论是利用MEMS还是碳纳米管，纳米技术的各个方面都需要高端的检测技术来实现制造工艺和器件集成。需要测量传统的CMOS性质的检测技术，但还有其它特性需要测量。比如，对于MEMS，必须利用光…
  • WLP能够改变MOEMS,MEMS
  • 真正的晶圆级封装可显著降低微光机电系统M（O）EMS的制造成本。MOEMS封装，除了传统的MEMS封装要求外，还要求每个独立传感器和执行器工作波长的光学透明度。大多数微机电系…
  • 生物传感器采用硅工艺
  • 普渡大学Birck纳米中心的任务之一就是将微米及纳米技术与生物技术结合，为生物和医疗领域的难题设计全新的解决方案。这个占地面积为187,000平方英尺的中心竣工于2005年，拥有面积…
  • 放大缺陷的工程显微镜
  • 早在17世纪，科学家 Anton van Leeuwenhoek就通过一架粗糙的显微镜观察微生物，从那时起就一直存在着对显微镜更高性能的需求。正如 Leeuwenhoek 的显微镜对那个时代科学的影响一样，今…
应用材料推出Extensa PVD系统 为存储芯片制造提供关键的铜阻挡层技术
应用材料推出Extensa PVD系统 为存储芯片制造提供关键的铜阻挡层技术
近日，应用材料公司推出Applied Endura® Extensa™ PVD（物理气相沉积）系统，这是业界唯一在…［详细］
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  • Keithley未雨绸缪

  • Keithley未雨绸缪

    创建于1946年的吉时利（Keithley）仪器公司，专注于测试和测量领域，其产品覆盖电子生产加工测试、平板显示器/光电子测试、半导体器件参数测试和晶圆工艺监控、无线…

  • 20080721：清洗

    雾状缺陷每年花费10亿美元，仍被误解；EUV掩膜版清洗—Intel的解决之道；浅结工程…

    20080714：光刻

    Intel：2011年前EUV无法在22nm大展拳脚；纳米压印光刻在CMOS HDD中的快速发展；L…

    20080707：晶圆工艺

    自对准阻挡层提高互连的可靠性；一种用于制造基于穿透硅通孔的三维集成电路之综合…

    20080702：设备与材料

    新型膜材料保护薄膜太阳能电池；Sematech关于锗材料的研究计划；磁学是实现高温超…
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