http://www.sichinamag.com/Eletter/SI/20081006.html
1 本 周 专 题:FPD
责任编辑:贾秀华| 2008年10月6日 星期一

2 专题文章

作者:Ruth DeJule, Semiconductor International, 特约编辑

在2000年早期,42寸的等离子体电视刚刚出现在市场时,其标价超过一万美元。而今年,LCD超过了等离子体(图1),3-D TV也正在步入普通家庭。 自1993年以来,这种进展的一部分是成立了由显示器制造商和开发商组成的美国显示联盟(USDC)。作为显示器领域的新成员,3-D技术……

作者:Aaron Hand, Executive Editor -- Semiconductor International

来自新加坡材料研究和工程研究所(IMRE)的科学家开发了一种阻挡层薄膜,可用于像低成本太阳能电池、柔性显示器和有机发光二极管(OLED)中,显著提高这类塑料电子器件的寿命。同当前其他方案相比,这种新技术可将器件抵抗潮湿的能力提高1000倍……

作者:孙胜,AKT公司

TFT-LCD产业在过去的15年中经历了多个阶段,而今的TFT-LCD已被广泛用于手机中的小型显示器、膝上型电脑和桌面电脑等大型显示器。LCD-TV也随着技术的成熟而进入了爆炸型增长期,日本、韩国和台湾现正在大量生产TFT-LCD面板……

3编辑评论

作者:姚钢

今年以来,整个平面显示在应用面的扩大以及产值的成长上都创下了新高,但整个产业仍面临着诸多的挑战;尤其是产业重点聚焦于新厂投资、客户关系、成本降低、技术演进、上下游支持与整合等活动中,中国大陆则显示出了整个平面显示器市场的新气象、新领域以及新契机的同时……

X 业界新闻

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< 产品介绍


2300 Versys Kiyo3x导体刻蚀系列产品CD一致性达到1nm(晶圆3σ水平)。这个第三代产品线包括对晶圆温度控制的改进,能够采用射线调节边缘控制和轮廓修正。该系统具有覆膜前和刻蚀后腔室清洗技术,以及在单一腔室内的多种膜刻蚀能力……
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Sirius 6000系统专为应对介质和多晶硅刻蚀工艺后的“温室”气体排放的挑战而设计。系统在严格控制的化学环境中采用高能效的微波等离子体,以及集成的湿法净气器来减少fab内含氟气体的排放……
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XR-1541电子束光刻胶专为实现下一代直写光刻工艺技术开发所设计。先进的旋涂式光刻胶产品系列是以电子束取代传统光源产生光刻图案,可提供图形小至6纳米的无掩膜光刻技术能力。它由甲基异丁基酮带性溶剂中的含氢硅酸盐类树脂所构成,适用于30nm到180nm的单层膜厚范围……
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