提高调控效果并简化全球制造过程
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2 专题文章
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作者：Alexander E. Braun, Senior Editor 尽管有迹象表明传统的测量设备已经达到了能力的极限，但是全新设计并具有更为复杂的计算模型的新一代测量技术将继续为包括工艺监控、技术检测、物理测量和电学测试在内的各种测试项目提供高精度、高重复性的技术支持。半导体技术不断向着更为细小的技术节点迈进…… |
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作者：Sally Cole Johnson, Contributing Editor 正如2007版国际半导体技术蓝图（ITRS）所提到的，自动测试设备（ATE）所面临的最紧迫的技术挑战便是“促进良率提高的测试”，特别是对于90、65、45nm和未来工艺节点上的晶圆工艺和器件良率学习。分散在各个方面的技术难题正混合在一起，促使ATE设备制造商不断寻找新的方案…… |
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作者：Ibrahim Burki Cristian Rivas Jeff Hurst Matt Weldon and Henry Yeung Metrosol Inc., Austin, Texas;Jimmy Price Patrick Lysaght P.Y. Hung Raj Jammy Sematech 量测平台的复杂性和光学原理上的局限性制约着测量系统的应用，直到真空紫外光谱反射仪的出现，这种状况才得到改变。为了控制漏电流,保证先进栅结构等效栅氧化层（EOT）可以持续地等比例缩小…… |
3专家观点
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作者：Ahmed Busnaina，NSF（东北大学(波士顿)）制造高性能纳米器件的纳米科学和工程技术中心以及NSF微污染控制中心主管 近来，各种“后CMOS时代”的器件不断涌现，它们的用途广泛且发展潜力巨大。1针对这些器件的性能、表现学术界已经进行了大量的研讨，但是在器件生产制造以及提升成品率方面的研究却没有得到应有的重视…… |
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