1 本 周 专 题：光刻
责任编辑：贾秀华| 2008年7月14日 星期一
2 专题文章
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作者：David Lammers, News Editor Intel逻辑技术研发部(Hillsboro, Ore.)工艺架构和集成主管Mark Bohr介绍说，当开始计划生产22nm的微处理器产品时，Intel Corp. (Santa Clara, Calif.)认为在2011年前极紫外（EUV）光刻技术都不会是一项具有生产价值的技术 …… |
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作者：Alexander E. Braun，Senior Editor 据Molecular Imprints公司的首席执行官 Mark Melliar-Smith所言，纳米压印技术明年将稳步跨入硬盘制造舞台，在几年之后达到CMOS高密度存储器工艺的极限。Molecular Imprints公司是一家压印工具的开发商和制造商…… |
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| 尽管在45nm技术节点上，绝大部分的芯片制造商都将采用浸没式光刻技术，但是对于32nm而言，哪一种技术才是最佳选择目前还没有定论。其中，一种可能的解决方案就是采用高折射率材料进一步延伸浸没式光刻技术的使用寿命。然而，之前针对这项技术的研究并不乐观…… |
3专家观点
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作者：Joe Fjelstad, Founder, SiliconPipe, San Jose 自从集成电路发明以来，芯片已无可辩驳地成为电子电路集成的最终形式。从那以后，集成度增加的速度就按照摩尔定律的预测稳步前进。摩尔定律的预测在未来若干年依然有效的观点目前仍被普遍接受，然而，一个同样被广泛认同的观点是，物理定律将使摩尔定律最初描述的发展趋势停止…… |
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