光刻技术的发展趋势
Lithography Trend
Oliver Li,Senior Technical Manager,Logic Technology Development Center Litho Department,SMIC
李庆钢，目前在中芯国际研发中心任职，负责130nm/90nm/65nm逻辑光刻工艺的研发，评估、验证、释放了中国大陆第一台193nm ArF的扫描光刻机和第一台高数值孔径193nm扫描光刻机。评估和验证了中国大陆第一组193nm ArF光刻胶。目前在中芯国际L T D部门进行45nm研发；之前，在摩托罗拉半导体工作过6年，评估、验证和释放了中国大陆8寸线第一台I-LINE的扫描光刻机，第一台248纳米DUV扫描光刻机。在光刻领域具有10年多的经验，拥有多项专利。
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