国内先进光刻胶的发展与应用
The Development and Application of Domestic Advanced Photoresist
Ran Ruicheng, GM/General Engineer, Suzhou HuaFei Micro-electronic Materials, Inc.
冉瑞成，北京大学化学系毕业，留校任教。1988年留学美国，先后在俄亥俄州立大学和密西西比州立大学学习和做博士后研究工作。其后作为高级专家（Senior Specialist），进入ChemFirst（现在 Du Pont）公司和Albermarle化学公司工作，从事有关光刻胶，光敏材料，导电高分子材料，液晶显示器和燃料电池用的特殊高分子材料的研发和工业化生产10年之久。2004年回国创建苏州华飞微电子材料有限公司，从事有关DUV光刻胶及成膜树脂的研究和生产，担任总工程师，代理总经理。“美国高分子材料大百科全书”独立撰稿人（第十卷中独立一章）；曾获美国专利4项，中国专利7项；曾在世界主要科学专业杂志上发表文章，曾发表研究论文70多篇。
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