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[视频]193nm掩膜版雾状缺陷解决方案

   2007-11-13   点击:301

Practical Solution for 193nm Reticle Haze

193nm掩膜版雾状缺陷解决方案

Zhang Xue Song,Field Application Supervisor,Entegris China.


        张雪松,Entegris中国区产品应用技术主管,2004年加入Entegris;之前曾任职于飞利浦、松下和Thermalwave公司;曾获沈阳科技大学电子工程学士学位。


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