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林启发：形成高成品率Salicide的先进去钴工艺

   2006-06-15   点击:275

林启发，亚太区产品产品管理处长
FSI International
1．IC设计规则的缩小，结深、允许的硅损耗随之下降，硅化物的选择也相应变化
2．未反应的金属和硅化物之间的选择性、电阻率、STI/扁强上残留物的去除等等都构成了Salicide面临的挑战
3．SPM常用于钴金属的选择性去除、最大程度上去除残留物
4．灵活的批处理喷雾系统，有效的SPM可以有效去除钴残留物，获得低的缺陷密度和高的成品率

相关视频：
1、2006年成品率提升研讨会成功举办
2、Victor Gill: 纳米技术时代的工艺和成品率控制
3、龚新军：0.25um 嵌入式闪存成品率提升
4、Jay Orbon：90和65纳米技术面临的成品率挑战
5、王喜均：帮助提高成品率的材料
6、张赞彬：亚微米时代工艺控制
7、黄启伦：TSMC成品率提升方法
8、林启发：形成高成品率Salicide的先进去钴工艺
9、林光启：SMIC成品率管理系统
10、Panel Discussion：突破深亚微米工艺下成品率提升障碍


















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